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明日方舟伊內(nèi)絲專(zhuān)精材料
1技能 淬影突襲
7級(jí):下次攻擊使目標(biāo)3秒內(nèi)每秒受到相當(dāng)于伊內(nèi)絲攻擊力55%的法術(shù)傷害(不疊加),并獲得2點(diǎn)部署費(fèi)用;初始技力0/ 消耗技力3
專(zhuān)精一:技巧概要·卷三*8、精煉溶劑*4、全新裝置*5
下次攻擊使目標(biāo)3秒內(nèi)每秒受到相當(dāng)于伊內(nèi)絲攻擊力65%的法術(shù)傷害(不疊加),并獲得2點(diǎn)部署費(fèi)用;初始技力1 / 消耗技力3
專(zhuān)精二:技巧概要·卷三*12、五水研磨石*4、三水錳礦*8
下次攻擊使目標(biāo)3秒內(nèi)每秒受到相當(dāng)于伊內(nèi)絲攻擊力 70% 的法術(shù)傷害(不疊加),并獲得2點(diǎn)部署費(fèi)用;初始技力2/ 消耗技力3
專(zhuān)精三:技巧概要·卷三*15、聚合劑*6、轉(zhuǎn)質(zhì)鹽聚塊*6
下次攻擊使目標(biāo)3秒內(nèi)每秒受到相當(dāng)于伊內(nèi)絲攻擊力 70% 的法術(shù)傷害(不疊加),并獲得2點(diǎn)部署費(fèi)用;初始技力3/ 消耗技力3
2技能 暗夜無(wú)明
7級(jí):攻擊范圍擴(kuò)大,攻擊力+80%,自身獲得隱匿,每次攻擊獲得1點(diǎn)部署費(fèi)用并偷取目標(biāo)6點(diǎn)攻擊速度(最多60點(diǎn),持續(xù)至技能結(jié)束或伊內(nèi)絲離場(chǎng));初始技力15/ 消耗技力 24 / 持續(xù)時(shí)間 12
專(zhuān)精一:技巧概要·卷三*8、五水研磨石*4、晶體元件*7
攻擊范圍擴(kuò)大,攻擊力+90%,自身獲得隱匿,每次攻擊獲得1點(diǎn)部署費(fèi)用并偷取目標(biāo)6點(diǎn)攻擊速度(最多60點(diǎn),持續(xù)至技能結(jié)束或伊內(nèi)絲離場(chǎng));初始技力15/ 消耗技力 23 / 持續(xù)時(shí)間 12
專(zhuān)精二:技巧概要·卷三*12、熾合金塊*4、聚合凝膠*9
攻擊范圍擴(kuò)大,攻擊力+100%,自身獲得隱匿,每次攻擊獲得1點(diǎn)部署費(fèi)用并偷取目標(biāo)6點(diǎn)攻擊速度(最多60點(diǎn),持續(xù)至技能結(jié)束或伊內(nèi)絲離場(chǎng));初始技力15/ 消耗技力 22 / 持續(xù)時(shí)間 12
專(zhuān)精三:技巧概要·卷三*15、雙極納米片*6、酮陣列*5
攻擊范圍擴(kuò)大,攻擊力+110%,自身獲得隱匿,每次攻擊獲得1點(diǎn)部署費(fèi)用并偷取目標(biāo)7點(diǎn)攻擊速度(最多70點(diǎn),持續(xù)至技能結(jié)束或伊內(nèi)絲離場(chǎng));初始技力15/ 消耗技力 20 / 持續(xù)時(shí)間 12
3技能 獨(dú)影歸途
7級(jí):部署后攻擊力+120%,立刻收回影哨對(duì)穿過(guò)的最多5名敵人造成相當(dāng)于攻擊力140%的物理傷害,技能期間每對(duì)一個(gè)敵人造成傷害就獲得1點(diǎn)部署費(fèi)用;持續(xù)時(shí)間 13 秒。
專(zhuān)精一:技巧概要·卷三*8、切削原液*4、糖組*8
部署后攻擊力+140%,立刻收回影哨對(duì)穿過(guò)的最多5名敵人造成相當(dāng)于攻擊力160%的物理傷害,技能期間每對(duì)一個(gè)敵人造成傷害就獲得1點(diǎn)部署費(fèi)用;持續(xù)時(shí)間 14 秒。
專(zhuān)精二:技巧概要·卷三*12、改良裝置*4、異鐵塊*5
部署后攻擊力+150%,立刻收回影哨對(duì)穿過(guò)的最多5名敵人造成相當(dāng)于攻擊力180%的物理傷害,技能期間每對(duì)一個(gè)敵人造成傷害就獲得1點(diǎn)部署費(fèi)用;持續(xù)時(shí)間 15 秒。
專(zhuān)精三:技巧概要·卷三*15、D32鋼*6、精煉溶劑*6
部署后攻擊力+160%,立刻收回影哨對(duì)穿過(guò)的最多6名敵人造成相當(dāng)于攻擊力200%的物理傷害,技能期間每對(duì)一個(gè)敵人造成傷害就獲得1點(diǎn)部署費(fèi)用;持續(xù)時(shí)間 16 秒。